Tandis que TSMC semble accélérer ses projets sur la gravure en 2 nm, le groupe Intel ne veut pas perdre l'avantage du timing et affirme que son procédé ...
Actualités similaires
Articles similaires à Semi-conducteurs : procédé Intel 18A, lithographie EUV High NA, tout est prêt mais n'est-il pas trop tard ?
Tandis que TSMC semble accélérer ses projets sur la gravure en 2 nm, le groupe Intel ne veut pas perdre l'avantage du timing et affirme que son procédé ...
Actualités similaires
En difficulté et obligée de licencier massivement, Intel poursuit son effort en matière de gravure fine et commande un nouvel équipement de lithographie ...
Actualités similaires
Pour graver très fin, à 2 nm et en-dessous, il faudra des équipements spéciaux. Intel sera le premier à s'équiper des nouvelles machines d'ASML et les ...
Actualités similaires