Vers la gravure 2 nm et en-deça : ASML et Intel allument la lithographie EUV High NA
Pour graver très fin, à 2 nm et en-dessous, il faudra des équipements spéciaux. Intel sera le premier à s'équiper des nouvelles machines d'ASML et les ...Actualités similaires
Articles similaires à Vers la gravure 2 nm et en-deça : ASML et Intel allument la lithographie EUV High NA
• Sources :
• Mots clés :
• Participer :
• Suivre l'actualité :
BACK TO TOP
